真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，电饭煲渐变加工价格，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
光学镀膜由薄的分层介质构成的，经过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的使用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。
吸收介质：能够是法向均匀的，也能够是法向不均匀的，实际使用的薄膜要比抱负薄膜复杂得多，这是因为，制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射，膜层之间的相互渗透形成扩散界面，因为膜层的成长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性，膜层具有复杂的时刻效应。
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